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J-GLOBAL ID：200903082961369071

パターン検査装置

Inventor： 金井 秀樹
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 三好 秀和 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000000139
Publication number (International publication number)：2001189359
Application date： Jan. 04, 2000
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 微細なパターンを明瞭に観察することができるパターン検査装置を提供する。【解決手段】 光源11と、光源11から放出される検査光の光路上に配置され、空気よりも高い屈折率を有するレンズ23と、レンズ23の検査対象物(例えば、マスクなど)26側の主面49上に検査光を集光させる集光手段と、主面49とマスク26の距離をフォトントンネル効果が生じる距離に保持するレンズ保持手段と、マスク26に照射された後の検査光の強度の測定手段とを少なくとも有する。

Claim (excerpt)：

光源と、前記光源から放出される検査光の光路上に配置され、空気よりも高い屈折率を有する透明部材と、前記光源と前記透明部材との間の光路上に配置され、前記透明部材の検査対象物側の主面上に前記検査光を集光させる集光手段と、前記透明部材の検査対象物側の主面と前記検査対象物の距離をフォトントンネル効果が生じる距離に前記透明部材を保持する透明部材保持手段と、前記検査対象物に照射された後の前記検査光の強度を測定する測定手段とを有することを特徴とするパターン検査装置。

IPC (3)：

H01L 21/66 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/956

FI (3)：

H01L 21/66 J ,  G01N 21/956 A ,  G01B 11/24 A

F-Term (56)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065DD12 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065GG04 ,  2F065GG22 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ07 ,  2F065JJ17 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL30 ,  2F065LL33 ,  2F065LL42 ,  2F065MM07 ,  2F065PP04 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ24 ,  2F065UU01 ,  2F065UU02 ,  2F065UU03 ,  2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BB20 ,  2G051CA02 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051CC07 ,  2G051DA07 ,  2G051EA11 ,  2G051EB01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB04 ,  4M106DB08 ,  4M106DB11 ,  4M106DB12 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ05 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ21