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J-GLOBAL ID：200903083001342086

電子線照射方法、その装置および照射物

Inventor： 松本 真芳 ,  広瀬 健
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000141094
Publication number (International publication number)：2001287472
Application date： May. 15, 2000
Publication date： Oct. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、被照射物に対して電子線を照射する方法であって、電子の散乱によって形成される電子線エネルギー分布を利用し、所望の照射領域に応じた照射を行う、つまり効率的な部分照射を行う方法を提供する。【解決手段】 電子線照射装置により、被照射物に電子線を照射する方法であって、(a)照射窓と被照射物の距離、(b)照射窓の形状および(c)照射窓と被照射物間の気体密度、から選ばれる少なくとも一つ、あるいは上記(a)、(b)または(c)から選ばれる少なくとも一つと(d)電子の加速電圧と、を制御または変更することにより、電子の散乱によって形成される電子線エネルギー分布を利用し、所望の照射領域に応じた照射を行う電子線照射方法。

Claim (excerpt)：

電子線照射装置により、被照射物に電子線を照射する方法であって、(a)照射窓と被照射物の距離、(b)照射窓の形状および(c)照射窓と被照射物間の気体密度、から選ばれる少なくとも一つ、あるいは上記(a)、(b)または(c)から選ばれる少なくとも一つと(d)電子の加速電圧と、を制御または変更することにより、所望の照射領域に応じた照射を行うことを特徴とする電子線照射方法。

IPC (8)：

B41M 7/00 ,  A63B 37/00 ,  A63B 45/00 ,  B23K 15/00 502 ,  B41J 2/01 ,  B41M 1/40 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/04

FI (10)：

B41M 7/00 ,  A63B 37/00 E ,  A63B 45/00 B ,  B23K 15/00 502 ,  B41M 1/40 A ,  G21K 5/00 B ,  G21K 5/00 W ,  G21K 5/00 A ,  G21K 5/04 E ,  B41J 3/04 101 Z

F-Term (16)：

2C056EA01 ,  2C056FB01 ,  2C056HA44 ,  2H113AA04 ,  2H113AA05 ,  2H113BA41 ,  2H113BB07 ,  2H113BB25 ,  2H113CA00 ,  2H113EA05 ,  2H113EA06 ,  2H113EA27 ,  2H113FA45 ,  2H113FA48 ,  4E066BB02 ,  4E066BE03