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J-GLOBAL ID：200903083006546836
成膜装置における塵埃のクリーニング方法および機構
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994058506
Publication number (International publication number)：1995273039
Application date： Mar. 29, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：
【要約】【構成】基板18の替わりに絶縁板17を第一の真空室14に入れ、電極15および高電圧電源16により絶縁板17を帯電させる。帯電した絶縁板17を基板18と同様の工程を流し、各真空室の塵埃を吸着させる。【効果】基板に付着しやすい塵埃を効果的に除去することができ、真空容器を大気に開放することなく、塵埃の除去ができるため、真空容器を大気開放して清掃する周期を延長することができる。
Claim (excerpt)：
基体に対して成膜処理を行う少なくとも一つの真空容器を有する成膜装置において、前記基体を成膜処理する成膜室内か、あるいは前記基体を成膜処理する前の処理室内か、あるいは大気中で、絶縁性の物質に帯電処理を行い、前記絶縁性の物質を、帯電させた状態のまま、成膜処理を行う真空容器に導入することを特徴とする塵埃のクリーニング方法。
IPC (3)：
H01L 21/205
, C23C 14/00
, C23C 16/02
