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J-GLOBAL ID：200903083037536499

プラズマ生成方法及び装置とそれを用いたプラズマ処理方法及び装置

Inventor： 渡辺 克哉 ,  加治 哲徳 ,  田村 直行 ,  中田 健二 ,  七田 弘之 ,  渡辺 成一 ,  奥平 定之 ,  鈴木 敬三
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994219824
Publication number (International publication number)：1995235394
Application date： Sep. 14, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】マイクロ波を用いたプラズマ生成において、安定した高密度・均一プラズマを生成する。【構成】プラズマ発生室と略同径のマイクロ波透過窓及び空洞部を順次プラズマ発生室に接続して設け、空洞部を介してプラズマ発生室にマイクロ波を導入し、プラズマ発生室に導入されたマイクロ波によってプラズマ発生室内のガスをプラズマ化し、プラズマ発生室に生成されるプラズマのマイクロ波反射境界面と空洞部の反射端面との間で特定モードのマイクロ波を共振させる。これにより、空洞部には特定モードのマイクロ波が形成され、共振によってエネルギ的に高められた特定モードのマイクロ波のエネルギがプラズマに加わり、プラズマを高密度化できる。また、電界の均一性の良い特定モードのマイクロ波を共振させ、安定して均一性の良いプラズマを生成できる。

Claim (excerpt)：

プラズマ発生部に発生させられるプラズマのマイクロ波反射境界面と、前記プラズマ発生部のマイクロ波導入側に連結した空洞部の前記プラズマ対向端面との間で、前記空洞部に伝播されたマイクロ波に定在波を生じさせ、前記マイクロ波のエネルギをプラズマに伝達することを特徴とするプラズマ生成方法。

IPC (3)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/3065 ,  G01N 24/14

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  G01N 24/14 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-264722
  
• 特開昭63-103088
  
• 特開昭63-126196
  
• 特開平2-209484