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J-GLOBAL ID：200903083045787271

中空シリカ粒子の製造方法

Inventor： アミシュ,フレデリック
Applicant, Patent owner： ロディア シミ
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997537790
Publication number (International publication number)：2000500113
Application date： Apr. 22, 1997
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】本発明は、珪酸アルカリ金属水溶液から活性シリカをシリカ以外の材料からなるコア上に沈殿させ、該材料をシリカシェルを破壊させることなく除去することによって稠密シリカシェルからんる中空粒子の製造方法を開示する。このような粒子は、絶縁材として、重合体、建築材料、ゴム、紙又は塗料のための中空充填剤として、吸収剤として、歯磨き剤又は添加剤として、活性物質の吸収及び(又は)放出のための支持体(該活性物質の放出は機械的な破裂により又は塩基性媒体中でのシリカシェルの溶解により又は拡散によりシリカシェルの破壊させることよて達成される)として、日光保護剤又は日光保護剤の支持体として、或いは液状物質の固体状での処方のために使用することができる。

Claim (excerpt)：

活性シリカを珪酸アルカリ金属Mの水溶液から、少なくとも2、好ましくは

IPC (10)：

C01B 33/12 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/28 ,  C08K 3/36 ,  C09C 1/28 ,  C09D 7/12 ,  D21H 17/68 ,  D21H 19/40 ,  A61K 7/16 ,  A61K 7/42

FI (10)：

C01B 33/12 ,  B01J 20/10 A ,  B01J 20/28 A ,  C08K 3/36 ,  C09C 1/28 ,  C09D 7/12 Z ,  D21H 17/68 ,  D21H 19/40 ,  A61K 7/16 ,  A61K 7/42

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開平2-302312
  

Cited by examiner (1)

• 特許第5024826号