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J-GLOBAL ID：200903083054484192

レジスト組成物

Inventor： 松野 修吾 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀 ,  和田 泰昌 ,  杉本 達也
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994196082
Publication number (International publication number)：1996044063
Application date： Jul. 28, 1994
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 主鎖にカルボキシル基を有するポリマーにフェニル基を介して酸不安定性基を導入した重合体と感放射線成分とを含有するレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】(式中、R<SP>1</SP>、R<SP>3</SP>はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基であり、R<SP>2</SP>は水素原子、次式(2)、【化2】次式(3)、【化3】次式(4)、【化4】次式(5)【化5】(式(2)〜(5)中、R<SP>5</SP>〜R<SP>7</SP>、R<SP>10</SP>、R<SP>13</SP>、R<SP>14</SP>はそれぞれ独立に炭素数1〜8の直鎖状、分岐状または環状の置換可アルキル基もしくはアリール基を表し、R<SP>8</SP>、R<SP>9</SP>、R<SP>11</SP>、R<SP>12</SP>は水素原子、炭素数1〜8の直鎖状、分岐状または環状の置換可アルキル、置換可アリール基である。なお、R<SP>5</SP>とR<SP>6</SP>、R<SP>8</SP>とR<SP>10</SP>はそれぞれ結合して環を形成していても良い。)であり、R<SP>4</SP>は次式(6)、【化6】次式(7)【化7】(式(6)、(7)中R<SP>15</SP>は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、炭素数1〜8の直鎖、分岐または環状の置換可アルコキシ基、アルコキシカルボニル基もしくはアルコキシカルボニルメチルオキシ基であり、R<SP>16</SP>は水素原子、炭素数1〜8の置換可アルキル基、置換可アリール基である。)であり、kおよびmは重合体中の各構成単位のモル分率を示し、k+m=1、0<k≦1、0≦m<1である。)で表される構造単位を有する重合体と感放射線性成分とを含むレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭62-038454
  
• 特開昭62-039603
  
• 特にフォトレジストのためのマレイミドコポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-335601   Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーマイクロエレクトロニックマテリアルズアクチエンゲゼルシヤフト

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-038454
  
• 特開昭62-039603
  
• 特にフォトレジストのためのマレイミドコポリマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-335601   Applicant：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーマイクロエレクトロニックマテリアルズアクチエンゲゼルシヤフト