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J-GLOBAL ID：200903083119308257
マイクロ波放電反応装置及び電極装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
田宮 寛祉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1990400904
Publication number (International publication number)：1993182785
Application date： Dec. 07, 1990
Publication date： Jul. 23, 1993
Summary：
【要約】目的 簡単な構成で小型且つ安価に作製することができ、均一性の良好なプラズを生成するマイクロ波放電反応装置及び電極装置を提供すること。構成 中心部から放射状に伸びる少なくとも1本のスリット部分を含むスリットを備えた平板状電極と、この平板状電極に対して当該スリットの長さ方向と同方向の磁場を作るように形成された磁気回路とにより電極装置を形成する。マイクロ波放電反応装置は、当該電極装置を備え、同軸線路で電極装置にマイクロ波を給電し、磁気回路の磁場とマイクロ波の電場の所定の所定の相互作用によりプラズマを生成し、基板処理を行う。磁気回路による磁場は、電極にほぼ直交すると共にマイクロ波による電場とも直交し、この作用によりプラズマ波は電極の近傍にて高密度で且つ効率良く生成される。
Claim (excerpt)：
内部を減圧状態に保持する機構とガスを導入する機構とを備える真空容器と、前記真空容器内にマイクロ波を導入して前記ガスをプラズマにするプラズマ発生機構と、このプラズマ発生機構と間隔をあけて設置される基板保持機構とによって構成されるマイクロ波放電反応装置において、前記プラズマ発生機構は、前記マイクロ波を前記真空容器内に導入する同軸型伝送路と、前記マイクロ波を放射する所定の長さと幅のスリットを少なくとも1本有する平板状電極と、この平板状電極の近傍に配置され、前記スリットの長さ方向と同じ方向の磁場を発生させる磁場発生手段とにより構成され、前記電極により真空容器内に放射されるマイクロ波と、前記磁場発生手段により前記マイクロ波の電場と直交する方向に発生する磁場との相互作用により前記基板保持装置の全面空間にプラズマを生成することを特徴とするマイクロ波放電反応装置。
IPC (5)：
H05H 1/46
, B01J 19/08
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/31
