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J-GLOBAL ID：200903083138519528

基板表面の清浄化方法

Inventor： 谷口 隆
Applicant, Patent owner： 東ソー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992147900
Publication number (International publication number)：1993323579
Application date： May. 15, 1992
Publication date： Dec. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 平滑な表面を有する基板について、基板枚数の多少にかかわらずパ-ティクル付着のない清浄な表面を簡易に得るための清浄化方法を提供する。【構成】 平滑な表面を有する基板上にポリマ-被膜を形成し、ポリマー被膜を剥離する基板表面の清浄化方法。

Claim (excerpt)：

平滑な表面を有する基板上にポリマ-被膜を形成し、このポリマ-被膜を剥離することにより基板表面に付着したパ-ティクルを除去することを特徴とする基板表面の清浄化方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  B08B 11/00 ,  H01L 21/304 341