浄水処理装置及び浄水処理方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992234864
Publication number (International publication number)：1994079290
Application date： Sep. 02, 1992
Publication date： Mar. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】処理水量や水質の変化に対してもつねに一定以上の水質を維持することができ、特にトリハロメタン等の有害物質を十分に除去することのできる浄水処理を行う。【構成】検水の紫外線吸光度及びオゾン処理前後におけるオゾン濃度に基づいてオゾン注入量の制御を行うことにより水質の制御を行う。好ましくは、検水を凝集沈澱処理した後にオゾンと接触反応させるとともにオゾン処理前後における検水の紫外線吸光度、及びオゾン処理前後におけるオゾン濃度をそれぞれ比較し、その結果に基づいて検水に対するオゾン注入量を制御して浄水処理を行う。

Claim (excerpt)：

検水とオゾンとを接触反応させるオゾン処理槽と、検水の紫外線吸光度測定手段と、オゾン濃度測定手段と、水質制御手段とを有し、前記水質制御手段は、前記紫外線吸光度測定手段及びオゾン濃度測定手段から得られる紫外線吸光度及びオゾン濃度に基づいてオゾン注入量の制御を行うことにより水質の制御を行うことを特徴とする浄水処理装置。

IPC (3)：

C02F 1/78 , C01B 13/10 , C02F 1/50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平2-277596
特開平3-056196
特開平4-225896

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