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J-GLOBAL ID：200903083193886831
位置計測方法およびその装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
津川 友士
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991223179
Publication number (International publication number)：1993060517
Application date： Sep. 03, 1991
Publication date： Mar. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】 光切断法に基づく位置計測精度の向上【構成】 スリット像の主要部とオーバーラップし、かつ平行な狭幅のウィンドウを形成し、このウィンドウに含まれるスリット像の端部の位置に基づいて位置計測対象物体の位置を算出する。
Claim (excerpt)：
位置計測対象物体にスリット光を照射してスリット像を得、スリット像に基づいて位置計測を行なう方法において、スリット像の主要部にオーバーラップさせた状態で主要部と同じ方向に延びる狭幅のウィンドウを形成し、ウィンドウに属するスリット像のうち最も端部の位置を得、得られた位置に基づいて位置計測対象物体の位置を算出することを特徴とする位置計測方法。
IPC (3)：
G01B 11/00
, B25J 19/04
, G06F 15/62 415
