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J-GLOBAL ID：200903083200227989

スパッタ装置用電源

Inventor： 三村 和弘 ,  森田 哲夫
Applicant, Patent owner： 新電元工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993351718
Publication number (International publication number)：1995197258
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はタ-ゲットの材質或は形状に無関係に電弧の発生、及び異常放電を防止せしめる電源の提供を目的とする。【構成】 本発明はスパッタを行うための真空室内のタ-ゲットにRF発生出力を供給する高周波電源と、前記タ-ゲット印加電圧から高周波交流電圧を除去し、直流バイアス電圧を形成する回路手段と、前記直流バイアス電圧に逆極性のパルスを重畳せしめて前記タ-ゲットに印加せしめる回路手段を備え、該パルスの電圧及び周波数を任意に調整することにより電弧或いは異常放電を消弧するように構成したものである。

Claim (excerpt)：

スパッタを行なうための真空室内のタ-ゲットにRF発生出力を供給する高周波電源と、前記タ-ゲット印加電圧から高周波交流電圧を除去し、直流バイアス電圧を形成する回路手段と、前記直流バイアス電圧に逆極性のパルスを重畳せしめて前記タ-ゲットに印加せしめる回路手段を備えたことを特徴とするスパッタ装置用電源。

IPC (2)：

C23C 14/44 ,  H01L 21/203

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭60-149768
  
• 特開昭61-001023
  
• 特開平1-195273
  

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-149768
  
• 特開昭61-001023
  
• 特開平1-195273