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J-GLOBAL ID:200903083235576749

放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994098805
Publication number (International publication number):1995026146
Application date: May. 12, 1994
Publication date: Jan. 27, 1995
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 本発明は放射線照射によって容易に硬化してプラスチックフィルムなどの基材に良好に密着し、得られた硬化皮膜が粘着物質を容易に剥離することができ、高速剥離時に剥離力が大きくなっても剥離力が発生しないという放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物の提供を目的とするものである。【構成】 本発明の放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物は、一般式I[ここにR1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基あるいはフェニル基、R2はR1と同じ基、または(メタ)アクリルオキシアルキル基、a+b×c+d= 500〜1,000 ]で示されるオルガノポリシロキサン(A)と、一般式III(R1、R2は前記と同じ、e+f×g+h=50〜200 )であるオルガノポリシロキサン(B)との混合物からなることを特徴とするものである。
Claim (excerpt):
一般式(I)【化1】[ここにR1は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基あるいはフェニル基、R2はR1と同じ基または一般式(II)【化2】(ここにR3は水素原子またはメチル基、nは1〜3)で示される基で、1分子中のけい素原子に結合している全有機基に対してその 0.5〜 3.0モル%は一般式(II)で示される基であり、cは0〜3、a+b×c+d= 500〜1,000 ]で示されるオルガノポリシロキサン(A)と、一般式(III)【化3】(R1は前記と同じ、R2はR1と同じ基または一般式(II)で示される基で、1分子中のけい素原子に結合している全有機基に対して5〜20モル%は一般式(II)で示される基であり、gは0〜3、e+f×g+h=50〜200 )であるオルガノポリシロキサン(B)とを主成分とし、その混合比率(重量比)がオルガノポリシロキサン(A)/オルガノポリシロキサン(B)=10/90〜40/60であることを特徴とする放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
IPC (2):
C08L 83/04 LRZ ,  C08F299/08 MRY
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-239526

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