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J-GLOBAL ID：200903083244040002

高純度微細シリコン粒子の製造方法及び高純度微細シリコン粒子を用いた高純度多結晶シリコンの製造方法

Inventor： 小松 善徳 ,  石井 正明 ,  高綱 和敏 ,  猿渡 康裕 ,  森川 育太郎 ,  石川 延宏 ,  ▲廣▼田 大助
Applicant, Patent owner： 東燃化学株式会社 ,  東亞合成化学工業株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992316348
Publication number (International publication number)：1994144822
Application date： Oct. 30, 1992
Publication date： May. 24, 1994
Summary：

【要約】【目的】金属不純物含有量が極めて少ない高純度シリコン微細粒子の簡便な製造方法を提供する。【構成】シリコン微細粒子を酸洗浄工程に付すことによって洗浄し高純度シリコン微細粒子を製造する方法において、該酸洗浄工程が、フッ化水素酸と硝酸を同時に用いる洗浄工程を含むことを特徴とする高純度微細シリコン粒子の製造方法。

Claim (excerpt)：

シリコン微細粒子を酸洗浄工程に付すことによって洗浄して高純度シリコン微細粒子を製造する方法において、該酸洗浄工程が、フッ化水素酸と硝酸を同時に用いる洗浄工程を含むことを特徴とする高純度微細シリコン粒子の製造方法。