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J-GLOBAL ID：200903083260751148

電子ビーム近接露光装置

Inventor： 島津 信生 ,  内海 孝雄
Applicant, Patent owner： 株式会社リープル
Agent (1)： 松浦 憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001294181
Publication number (International publication number)：2002184689
Application date： Sep. 26, 2001
Publication date： Jun. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】ごみの付着などによる欠陥の発生を防止して信頼性を向上した電子ビーム近接露光装置を実現する。【解決手段】電子ビーム近接露光装置は、試料(40)の表面に近接して配置されたマスク(30)の開口を通過した電子ビーム(15)で、試料(40)の表面に開口に対応するパターンを露光する電子ビーム近接露光部(8,10)と、マスクを検査するマスク検査部(81)と、マスクを修正するマスク修正部(82)と、マスクを電子ビーム近接露光部とマスク検査部とマスク修正部との間で搬送するマスク搬送機構(85,86,87,88)とを備え、電子ビーム近接露光部とマスク検査部とマスク修正部とマスク搬送機構とは、共通な真空経路でつながっており、マスクをこれらの間で真空状態で搬送することが可能である。

Claim (excerpt)：

試料の表面に近接して配置されたマスクの開口を通過した電子ビームで、前記試料の表面に前記開口に対応するパターンを露光する電子ビーム近接露光部と、前記マスクを検査するマスク検査部と、前記マスクを、前記電子ビーム近接露光部と前記マスク検査部との間で搬送するマスク搬送機構とを備え、前記電子ビーム近接露光部と前記マスク検査部と前記マスク搬送機構とは、共通の真空経路でつながっており、前記電子ビーム近接露光部と前記マスク検査部との間で前記マスクを真空状態で搬送することが可能であることを特徴とする電子ビーム近接露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/305

FI (5)：

G03F 7/20 504 ,  H01J 37/20 B ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 541 S

F-Term (11)：

2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C001AA02 ,  5C001AA07 ,  5C001CC06 ,  5C001DD01 ,  5C034BB05 ,  5C034BB06 ,  5F056AA06 ,  5F056EA08 ,  5F056EA12