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J-GLOBAL ID：200903083264276380

反射防止膜形成用組成物および反射防止膜

Inventor： 山田 欣司
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998082754
Publication number (International publication number)：1999258813
Application date： Mar. 13, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 反射防止効果が高く、インターミキシングを起こすことなく、解像度および精度に優れるレジストパタ-ンを、簡便な回転塗膜法を用いて形成できる反射防止膜形成用組成物を提供することにある。【解決手段】 (A)ポリチタノキサンおよび(B)溶剤を含有してなる反射防止膜形成用組成物。

Claim (excerpt)：

(A)ポリチタノキサンおよび(B)溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成用組成物。

IPC (5)：

G03F 7/11 503 ,  C08K 5/07 ,  C08L 83/04 ,  C08L 85/00 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/11 503 ,  C08K 5/07 ,  C08L 83/04 ,  C08L 85/00 ,  H01L 21/30 574