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J-GLOBAL ID：200903083276010024

フッ素含有表面薄層を有する成形品の製造方法

Inventor： 小駒 益弘 ,  森脇 隆夫 ,  高橋 和夫 ,  岡崎 幸子
Applicant, Patent owner： 岡崎 幸子
Agent (1)： 守谷 一雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992294641
Publication number (International publication number)：1994065408
Application date： Dec. 03, 1984
Publication date： Mar. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 基材の表面をエッチングせずに基材上にフッ素含有表面薄層を形成する。【構成】 アルミナ管6内部のプラズマ反応系2に飽和フッ化炭素化合物またはフッ化硫黄化合物のガスを導入し、プラズマ発生系1によりマイクロ波を発生させプラズマ反応系2においてプラズマを発生させる。この時基材7はプラズマ発生領域より下流側に配置する。【効果】 エッチャントは寿命が短いためプラズマ発生領域より下流に配置された基材7まで届かずに消滅し、基材7の表面はエッチングされず平滑性を維持して表面にフッ素含有表面薄層を形成できる。

Claim (excerpt)：

飽和フッ化炭素化合物またはフッ化硫黄化合物の反応ガスを導入し電極間または金属管内部にマイクロ波放電を生ぜしめ前記気体をプラズマ化し、基材上にフッ素含有薄層を有する形成品を製造する際、前記基材を前記電極または前記金属管中央部より下流側に配置することを特徴とするフッ素含有表面薄層を有する成形品の製造方法。

IPC (3)：

C08J 7/04 ,  C04B 41/83 ,  C08J 7/00 306

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭59-056724
  
• 特開昭55-099932