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J-GLOBAL ID：200903083292812718

脱リン装置

Inventor： 近藤 久幸 ,  西田 政司 ,  砥上 靖孝 ,  堀口 忠雄
Applicant, Patent owner： 福岡市 ,  栗田工業株式会社
Agent (1)： 佐田 守雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998281565
Publication number (International publication number)：1999151500
Application date： Sep. 26, 1986
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】 リン成分を、リン酸アンモニウムマグネシウムとして沈降分離し、実質的なリンの除去を達成する装置を提供する。【解決手段】 リン含有水をマグネシウムイオンおよびアンモニウムイオンの存在下に気曝処理してリン酸アンモニウムマグネシウムの結晶を生成する気曝槽であって、該気曝槽に設けられたリン含有水の供給口と、マグネシウム塩の添加手段と、上端に設けられたリン除去水の排出手段と、結晶を流動層として形成するために底部付近に設けられた空気噴出手段と、空気噴出手段の下方に設けられた成長して大きくなった結晶の取出口とを設けたことを特徴とする脱リン装置。

Claim (excerpt)：

リン含有水をマグネシウムイオンおよびアンモニウムイオンの存在下に気曝処理してリン酸アンモニウムマグネシウムの結晶を生成する気曝槽であって、該気曝槽に設けられたリン含有水の供給口と、マグネシウム塩の添加手段と、上端に設けられたリン除去水の排出手段と、結晶を流動層として形成するために底部付近に設けられた空気噴出手段と、空気噴出手段の下方に設けられた成長して大きくなった結晶の取出口とを設けたことを特徴とする脱リン装置。

IPC (3)：

C02F 11/00 ZAB ,  C02F 3/30 ZAB ,  C02F 11/04 ZAB

FI (3)：

C02F 11/00 ZAB J ,  C02F 3/30 ZAB C ,  C02F 11/04 ZAB Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公平7-077640
  
• 特開平1-119392
  
• 特開昭63-084696