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J-GLOBAL ID：200903083298400233

位置計測装置、露光装置、デバイス製造方法

Inventor： 田中 亮 ,  小林 満
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (4)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004162310
Publication number (International publication number)：2005347332
Application date： May. 31, 2004
Publication date： Dec. 15, 2005
Summary：

【課題】 マスク固有の特性によらず、マスクマークを高いコントラストで確実に観察することができる位置計測装置を提供する。【解決手段】 位置計測装置は、マスクマークRM(7)と、基準部材上の下地領域FM(7)とを照明ビームで照明し、マスクマークRM(7)と下地領域FM(7)とから発生したビームを計測系を用いて同時に観察し、その観察結果に基づいてマスクマークRM(7)の位置情報を求める。下地領域FM(7)は、照明ビームに対する反射率が互いに異なる複数の領域(高反射領域Ma,低反射領域Mb)が同時にマスクマークRM(7)と共に計測系で観察されるように構成されている。【選択図】 図8

Claim (excerpt)：

マスクステージ上に載置されているマスク上に形成されたマスクマークと、基板ステージ上に設けられている基準部材上の下地領域とを照明ビームで照明し、前記マスクマークと前記下地領域とから発生したビームを計測系を用いて同時に観察し、その観察結果に基づいて前記マスクマークの位置情報を求める位置計測装置であって、 前記下地領域は、前記照明ビームに対する反射率が互いに異なる複数の領域が同時に前記マスクマークと共に前記計測系で観察されるように構成されていることを特徴とする位置計測装置。

IPC (3)：

H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00

FI (4)：

H01L21/30 525C ,  G01B11/00 C ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 525F

F-Term (25)：

2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC18 ,  2F065CC20 ,  2F065FF10 ,  2F065FF44 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065GG05 ,  2F065HH04 ,  2F065LL30 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046EA02 ,  5F046EB02 ,  5F046EB08 ,  5F046ED03 ,  5F046FA10 ,  5F046FA16 ,  5F046FA17 ,  5F046FB02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-111979   Applicant：株式会社ニコン