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J-GLOBAL ID:200903083306754287

構造物の洗浄・保護方法および構造物用洗浄液剤・保護液剤キット

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  鈴木 亨 ,  八本 佳子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003142074
Publication number (International publication number):2004346124
Application date: May. 20, 2003
Publication date: Dec. 09, 2004
Summary:
【課題】真菌または細菌による汚れを伴う複合した汚れを有する構造物を高度に洗浄し、洗浄後の構造物への真菌または細菌の発生を長期にわたって防止する保護を行い、しかも必要に応じて構造物に良好な色調、強度、撥水性などを付与することができる構造物の洗浄・保護方法及び洗浄液剤・保護液剤キットを提供する。【解決手段】構造物を、次亜塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、非イオン系界面活性剤及びグリシンを含有し、pHが8〜12である洗浄液剤など4種の洗浄液剤から選ばれる1種以上の洗浄液剤を用いて洗浄する洗浄工程と、N-ジメチル-N’-フェノール-N’-(フルオロジクロロメチルチオ)-スルファミド、サイアベンタゾール、撥水剤及び有機溶剤を含有する保護液剤など4種の保護液剤から選ばれる保護液剤を用いて保護する保護工程とを有する構造物の洗浄・保護方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(I)構造物を、下記(1)〜(4)よりなる群から選ばれる1種以上の洗浄液剤を用いて洗浄する洗浄工程と、 (II)洗浄工程(I)で洗浄した構造物を、下記(a)〜(d)よりなる群から選ばれる保護液剤を用いて保護する保護工程と を有することを特徴とする構造物の洗浄・保護方法; (1)次亜塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、非イオン系界面活性剤およびグリシンを含有し、pHが8〜12である洗浄液剤、 (2)フッ化水素ナトリウムおよびキレート剤を含有し、pHが4〜6である洗浄液剤、 (3)次亜塩素酸ナトリウムおよび炭酸ナトリウムを含有し、水酸化ナトリウムを含有せず、pHが8〜12である洗浄液剤、 (4)非イオン界面活性剤、アルカリビルダー、キレート剤および金属封鎖剤(アルカリビルダーを除く)を含有し、pHが8〜12である洗浄液剤、 (a)N-ジメチル-N’-フェノール-N’-(フルオロジクロロメチルチオ)-スルファミド、サイアベンタゾール、撥水剤および有機溶剤を含有する保護液剤、 (b)N-ジメチル-N’-フェノール-N’-(フルオロジクロロメチルチオ)-スルファミド、サイアベンタゾール、撥水剤、合成樹脂および有機溶剤を含有する保護液剤、 (c)N-ジメチル-N’-フェノール-N’-(フルオロジクロロメチルチオ)-スルファミド、サイアベンタゾール、撥水剤、ポリアルキルシロキサンおよび有機溶剤を含有する保護液剤、 (d)N-ジメチル-N’-フェノール-N’-(フルオロジクロロメチルチオ)-スルファミド、サイアベンタゾール、撥水剤、シラン系シリコーンおよび有機溶剤を含有する保護液剤。
IPC (13):
C11D3/395 ,  A01N43/78 ,  A01N47/04 ,  A01N59/08 ,  A01N59/10 ,  B08B3/08 ,  C11D3/04 ,  C11D3/10 ,  C11D3/30 ,  C11D3/37 ,  C11D3/43 ,  C11D3/48 ,  C11D7/10
FI (13):
C11D3/395 ,  A01N43/78 A ,  A01N47/04 ,  A01N59/08 A ,  A01N59/10 ,  B08B3/08 Z ,  C11D3/04 ,  C11D3/10 ,  C11D3/30 ,  C11D3/37 ,  C11D3/43 ,  C11D3/48 ,  C11D7/10
F-Term (36):
3B201AA31 ,  3B201BB95 ,  3B201CC11 ,  4H003BA12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA07 ,  4H003DA08 ,  4H003DA10 ,  4H003DA20 ,  4H003DB01 ,  4H003DC02 ,  4H003EA16 ,  4H003EA21 ,  4H003EA22 ,  4H003EB13 ,  4H003EB37 ,  4H003ED03 ,  4H003ED28 ,  4H003ED32 ,  4H003EE08 ,  4H003FA21 ,  4H003FA34 ,  4H011AA02 ,  4H011AA03 ,  4H011BA01 ,  4H011BA05 ,  4H011BA06 ,  4H011BB10 ,  4H011BB11 ,  4H011BB18 ,  4H011BC18 ,  4H011BC19 ,  4H011DA12 ,  4H011DD07 ,  4H011DG16 ,  4H011DH07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 漂白剤
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-254047   Applicant:ライオン株式会社
  • 特開平3-191145
  • 除菌・抗菌・防カビ施工法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-242458   Applicant:坂本浩幸
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