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J-GLOBAL ID：200903083309623647

ガス,廃ガス,蒸気及びゾルの浄化方法及び装置

Inventor： フランツ・デイートリヒ・エステ
Applicant, Patent owner： フランツ・デイートリヒ・エステ ,  ローベルト・アールベルス ,  オルガ・デイートリヒ
Agent (1)： 中平 治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992361827
Publication number (International publication number)：1993337337
Application date： Dec. 21, 1992
Publication date： Dec. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ガス,廃ガス,蒸気,及びゾルの浄化の際生ずる反応生成物を簡単に系外へ排出できるようにする。【構成】 望ましくない化学物質で汚染されるか又は高濃度でこれに混合している基質即ち,ガス,廃ガス,蒸気,及びゾルが,触媒の表面で行われる光触媒反応により浄化される。触媒は固定床又は流動床の触媒担体上にある。流動床では触媒自体が触媒担体として作用する。触媒担体及び触媒は,閉じた系内で浄化すべき基質を通される。固定床触媒原理では,触媒担体及び触媒の系が連続的又は不連続的に洗浄区域を通つて,形成される鉱化生成物を洗い落とされる。反応は250〜400mmの波長を持つ短波長の光の光子により開始される。

Claim (excerpt)：

a)化学的腐食及び短波長の光に対して長時間耐えかつ機械部分について必要とされるような機械的安定性を持つ使用材料に対して大きい比表面積を持つ触媒担体,b)化学元素の周期系のVIII族の白金族の少なくとも1つの金属に混合されかつ/又はこれを含みかつ半導体の性質を持つ少なくとも1つの酸化物及び/又は混合酸化物から成り触媒担体上にある第1の触媒,c)ランタニド,アクチニドの族及び化学元素の周期系のIIIb族の少なくとも1つの元素から成り触媒担体上にある第2の触媒,d)光子供給源としての250ないし400nmの波長を持つ短波長の光用の少なくとも1つの光源,及びe)第1及び第2の触媒を被覆される触媒担体が動かされかつ有極性溶媒の作用を受ける少なくとも1つの触媒担体用洗浄区域から成る空間的に閉じた系に浄化すべき基質を通すことを特徴とする,触媒の表面で行われる光触媒反応により,望ましくない化学物質で汚染されるか又はこれに混合されているガス,廃ガス,蒸気及びゾルの浄化方法。

IPC (5)：

B01D 53/36 ZAB ,  B01J 23/56 ZAB ,  B01J 23/56 301 ,  B01J 23/90 ,  B01J 35/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-107339
  
• 特開平2-169040
  
• 特開平3-233100