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J-GLOBAL ID：200903083318018829

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 河辺 保雅 ,  丹 史郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995320588
Publication number (International publication number)：1997160234
Application date： Dec. 08, 1995
Publication date： Jun. 20, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ポジ型フォトレジスト組成物において、高い感度、解像力を有し、現像性(現像残渣が発生しない)及びレジスト形状に優れ、得られるレジスト像が耐熱性、特に耐ドライエッチング性に優れる。【解決手段】 1,2-キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性樹脂として特定のフェノール化合物と特定のテルペン類との混合物と、アルデヒド類とを縮合させて得られるノボラック樹脂を含むポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂と1,2-キノンジアジド化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂が、下記一般式〔1〕で表されるフェノール類の少なくとも1種及び下記一般式〔2〕で表される化合物の少なくとも1種を含有する混合物と、アルデヒド類とを縮合させることにより得られるノボラック樹脂を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式〔1〕中、R1 〜R3 は、同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシアルキル基、アリールカルボニル基又はシクロアルキル基を表す。【化2】式〔2〕中、R4 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基、アルケニル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アシロキシ基、ニトロ基又はシアノ基を表す。R5 は水素原子又はアルキル基を表す。Xは、単結合又は-C(CH3 )(CH3 )-を表す。m、nは、1〜3の整数を表し、m+n=5である。lは、1〜3の整数を表す。

IPC (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R