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J-GLOBAL ID：200903083319158942

セラミックス部材の洗浄方法

Inventor： 渡邉 賢亮
Applicant, Patent owner： 株式会社シーティーエス
Agent (1)： 加藤 久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001330963
Publication number (International publication number)：2003126794
Application date： Oct. 29, 2001
Publication date： May. 07, 2003
Summary：

【要約】【課題】 半導体製造装置用のセラミックス部材の洗浄において、従来の湿式洗浄に代わるあらたな洗浄方式を採用することにより、乾式洗浄のみでの洗浄を可能にする。【解決手段】 固形炭酸粒子をセラミックス部材の表面に噴射する洗浄工程と、炉内において加熱処理する洗浄工程とを組み合わせることによって、湿式洗浄と加熱洗浄を組み合わせた従来の洗浄方法に比較して、洗浄後のセラミックス部材の表面のみならず内部の汚染物が充分に除去されて、セラミックス部材の洗浄周期を延長することができる。また、固形炭酸粒子の噴射による洗浄は従来の湿式洗浄に比較して洗浄時間を大幅に短縮することができる。

Claim (excerpt)：

セラミックス部材の表面の付着物を洗浄する方法であって、固形炭酸粒子をセラミックス部材の表面に噴射することにより被洗浄材の表面の付着物を剥離除去する洗浄工程と、炉内において被洗浄材を加熱冷却する洗浄工程とを含むことを特徴とするセラミックス部材の洗浄方法。

IPC (2)：

B08B 7/00 ,  C04B 41/91

FI (2)：

B08B 7/00 ,  C04B 41/91 Z

F-Term (5)：

3B116AA46 ,  3B116BA06 ,  3B116BB21 ,  3B116BB82 ,  3B116BB90