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J-GLOBAL ID：200903083327047807

処理装置

Inventor： 安田 賢司 ,  真田 博幸 ,  管林 輝 ,  村上 政明
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993163771
Publication number (International publication number)：1994345262
Application date： Jun. 10, 1993
Publication date： Dec. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】 処理液の残滓によって被処理体がアームから離れにくくなるような不都合をなくし、処理機構への被処理体の受け渡しを円滑に行う。【構成】 アーム8に被処理体の周縁近傍の下面に当接してこれを数点支持する複数の突起状吸着部14を設ける。これら吸着部14の外側に、被処理体に供給された処理液等の残滓を受けるための滓受溝12を形成する。これにより、被処理体をその周縁がアーム8に接触しない状態で保持することができ、かつ被処理体の周縁部から落下する残滓を滓受溝12で受けることができる。

Claim (excerpt)：

被処理体に処理を施す複数の処理機構と、これらの処理機構に上記被処理体を搬送するための搬送機構と、この搬送機構に移動自在に設けられ上記被処理体を保持するアームとを有する処理装置において、上記アームに上記被処理体の周縁近傍の下面に当接してこれを数点支持する複数の突起状吸着部を設けると共に、これら吸着部の外側に、上記被処理体に供給された処理液等の残滓を受けるための滓受溝を形成したことを特徴とする処理装置。

IPC (3)：

B65G 49/07 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 361 C ,  H01L 21/30 361 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-141670
  
• 特公昭54-030585