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J-GLOBAL ID：200903083339029502
マイクロリトグラフィックレジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
坂口 博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997252492
Publication number (International publication number)：1998182989
Application date： May. 02, 1994
Publication date： Jul. 07, 1998
Summary：
【要約】【課題】 環境汚染物との不利な反応を受けにくく、かつ露光と露光後焼付け又は露光後焼付けと現像との間の可変の又は長い遅延に対する許容度を高める。また、プロフィールに対するいかなる劣化もなくし、溶媒に対する溶解性を安定にし、室温下において溶液中での長期間の貯蔵寿命を付与する。【解決手段】 マイクロリトグラフィックレジスト組成物として、化学的に結合される反復ヒドロキシル基の少なくとも一部がケタール成分を含む前記酸不安定化合物によってo-置換されたフィルム形成ポリマと、化学線への露光により酸を形成する、ポリマと化学的に結合されている酸発生化合物と、を含む組成物を用いる。露光により発生した酸がケタール成分を含む前記化合物の少なくとも一部の開裂を引き起こし、露光された組成物は未露光組成物と比較して水性塩基に選択的に、より可溶性となる。
Claim (excerpt)：
水性塩基現像可能なマイクロリトグラフィックレジスト組成物であって、混合物中に、(a)化学的に結合される反復ヒドロキシル基の少なくとも一部がケタール成分を含む前記酸不安定化合物によってo-置換されたフィルム形成ポリマと、(b)化学線への露光により酸を形成する、ポリマと化学的に結合されている酸発生化合物と、を含み、露光により発生した酸がケタール成分を含む前記化合物の少なくとも一部の開裂を引き起こし、露光された組成物は未露光組成物と比較して水性塩基に選択的に、より可溶性となることを特徴とする、マイクロリトグラフィックレジスト組成物。
IPC (6)：
C08L101/00
, C08L 25/02
, C08L 61/10
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C08L101/00
, C08L 25/02
, C08L 61/10
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Cited by examiner (9)
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