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J-GLOBAL ID:200903083349512007

反応性の液を基にしたガス貯蔵及び送給装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004120549
Publication number (International publication number):2004347112
Application date: Apr. 15, 2004
Publication date: Dec. 09, 2004
Summary:
【課題】金属ボンベ内に比較的低圧でルイス性塩基ガスを安全に貯蔵、移送および送給する方法及び装置をする。【解決手段】一般に、ルイス酸性度又は塩基性度を有するガスを選択的に貯蔵し、その後当該ガスを適度の加熱、減圧又は両方により、例えば一般には5psigより低く、典型的には大気圧より低い圧力で、送給するための低圧貯蔵及び送給装置における改良に関する。改良点は、ガスを反対のルイス塩基性度又は酸性度を有する反応性液中に可逆的に反応した状態で貯蔵することにある。【選択図】図1
Claim (excerpt):
ガスを貯蔵及び送給するための装置であり、i)ガスを貯蔵することができる媒体を収容する容器、及びii)当該容器から当該媒体に貯蔵された当該ガスを送給するためのレギュレータ手段、から構成される貯蔵及び送給装置であって、 ルイス酸性度を有する反応性液から構成される媒体中にルイス塩基性度を有するガスを可逆的に反応した状態で貯蔵すること、あるいは、 ルイス塩基性度を有する反応性液から構成される媒体中にルイス酸性度を有するガスを可逆的に反応した状態で貯蔵すること、 を特徴とするガス貯蔵及び送給装置。
IPC (1):
F17C11/00
FI (1):
F17C11/00 B
F-Term (2):
3E072EA07 ,  3E072EA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 米国特許第4744221号明細書
  • 米国特許第5518528号明細書
  • 米国特許第5704965号明細書
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Cited by examiner (8)
  • 気体化合物の貯蔵と送出のシステム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-007073   Applicant:アドバンスド.テクノロジー.マテリアルス.インコーポレイテッド
  • 気体源用製造プロセスおよび供給システム
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願平10-550592   Applicant:アドバンスト・テクノロジィ・マテリアルズ・インコーポレイテッド
  • 特開昭61-201601
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