Pat
J-GLOBAL ID:200903083370381265

表示素子及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 梶原 康稔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001248834
Publication number (International publication number):2003059671
Application date: Aug. 20, 2001
Publication date: Feb. 28, 2003
Summary:
【要約】【課題】 成膜用マスクによる損傷を受けることなく良好に発光体を形成することができる表示素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 成膜用マスク44の開口46がRの凹部26Rに位置するように位置合わせし、シートマグネット48で吸着する。そして、蒸着源50によってRの有機EL層28Rを凹部26Rに形成する。その後、成膜用マスク44を移動し、G,Bの有機EL層28G,28Bを順に形成する。このとき、凹部26R,26G,26Bには、絶縁スペーサ25がそれぞれ形成されている。このため、シートマグネット48によって成膜用マスク44がリブ形成基板30の凹部26側に吸着されても、絶縁スペーサ25によって変形が低減され、有機EL層形成時における成膜用マスク44と有機EL層28Rや28Gとの接触が回避される。
Claim (excerpt):
周囲にリブが設けられた画素領域に成膜用マスクを使用して発光体が順次形成される表示素子であって、前記成膜用マスクに対して一定のスペースを確保するためのスペーサを、前記画素領域内に形成したことを特徴とする表示素子。
IPC (8):
H05B 33/22 ,  C23C 14/04 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 320 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14
FI (8):
H05B 33/22 Z ,  C23C 14/04 A ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 320 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A
F-Term (37):
3K007AB04 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04 ,  5C094AA08 ,  5C094AA47 ,  5C094AA48 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FA04 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5G435AA01 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435HH14 ,  5G435HH18 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page