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J-GLOBAL ID：200903083434847921

グロー放電プラズマ処理装置

Inventor： 高妻 誠
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001342070
Publication number (International publication number)：2003142298
Application date： Nov. 07, 2001
Publication date： May. 16, 2003
Summary：

【要約】【課題】 大気圧近傍の圧力下の常圧プラズマ処理装置において、簡便な装置で、使用ガスの周囲への拡散防止や外部空気の混入防止が可能なグロー放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下で、少なくとも一方が固体誘電体で被覆された一対の電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して、発生するグロー放電プラズマで被処理基材を処理する放電プラズマ処理装置であって、放電プラズマ発生部と被処理基材とを収納するチャンバー1と、チャンバー1を収納するチャンバー2の少なくとも2室を有し、該チャンバー2内の気圧がチャンバー1内の気圧より低圧で、かつ外気圧より低圧にされた結果、チャンバー1から処理ガスの流出がなされ、かつ、チャンバー2内部へ外気が流入するようになされたことを特徴とするグロー放電プラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

大気圧近傍の圧力下で、少なくとも一方が固体誘電体で被覆された一対の電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して、発生するグロー放電プラズマで被処理基材を処理する放電プラズマ処理装置であって、放電プラズマ発生部と被処理基材とを収納するチャンバー1と、チャンバー1を収納するチャンバー2の少なくとも2室を有し、該チャンバー2内の気圧がチャンバー1内の気圧より低圧で、かつ外気圧より低圧にされた結果、チャンバー1から処理ガスの流出がなされ、かつ、チャンバー2内部へ外気が流入するようになされたことを特徴とするグロー放電プラズマ処理装置。

IPC (2)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 H

F-Term (15)：

5F004AA13 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB12 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB24 ,  5F004BB28 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26