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J-GLOBAL ID：200903083438913198

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 富岡 淳 ,  上谷 保則 ,  中西 弘俊 ,  桑名 耕治
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993022772
Publication number (International publication number)：1994236030
Application date： Feb. 10, 1993
Publication date： Aug. 23, 1994
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、プロファイル等の諸性能のバランスに優れ、且つスカムのないポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、及び下記一般式(I)で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルの1種又は2種以上を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】〔式中、Y1 、Y2 、Z1 、Z2 、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 、及びZ7 はそれぞれハロゲン原子で置換されていてもよいC1 〜C4 のアルキル基、水素原子又は-OH基を表し、Y1 、Y2 のうち少なくとも1つは-OH基であり、Z1 、Z2 、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 、Z7 のうち少なくとも2つは-OH基である。また、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は水素原子、C1 〜C10のアルキル基、C2 〜C4 のアルケニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。〕

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、及び下記一般式(I)【化1】〔式中、Y1 、Y2 、Z1 、Z2 、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 及びZ7 はそれぞれハロゲン原子で置換されていてもよいC1 〜C4 のアルキル基、水素原子又は-OH基を表し、Y1 、Y2 のうち少なくとも1つは-OH基であり、Z1 、Z2、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 、Z7 のうち少なくとも2つは-OH基である。R1、R2 、R3 、R4 、R5 およびR6 はそれぞれ水素原子、C1 〜C10のアルキル基、C2 〜C4 のアルケニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。)で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルの1種又は2種以上を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭49-117758