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J-GLOBAL ID：200903083490491617
インダクシヨンプラズマ溶射装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田中 浩 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991194771
Publication number (International publication number)：1993021194
Application date： Jul. 08, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：
【要約】【目的】 インダクションプラズマ装置における誘導コイルをトーチ開口部外周の特定部位に設けて安定したプラズマ炎を得る。【構成】 外側管外周に配置する誘導コイル4の位置を中間管2の下端と一方の誘導コイル4aの中心との距離L1 を5mm以内、外側管1の下端と他方の誘導コイル4bの中心との距離L2 を5mm以上と特定した。
Claim (excerpt)：
一端から外側ガスを接線方向に導入し、他端の開口から放出する外側管、該外側管内に同軸的に設けられ、一端から中間ガスを接線方向に導入し、他端の開口から放出する中間管およびその中間管内に同軸的に設けられ、一端から供給されるキャリアガスを他端の開口から放出するキャリアガス導入管とからなる三重構造のトーチと、該トーチの開口部外周に設けた誘導コイルとから構成されるインダクションプラズマ溶射装置において、前記誘導コイルを前記外側管他端の開口端と誘導コイルの一方の中心との距離5mm以上で、前記中間管他端の開口端と誘導コイルの他方の中心との距離を5mm以内に設けたことを特徴とするインダクションプラズマ溶射装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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