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J-GLOBAL ID：200903083542707885
高耐熱性放射線感応性レジスト組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鐘尾 宏紀 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997174578
Publication number (International publication number)：1999024271
Application date： Jun. 30, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：
【要約】【目的】 高耐熱性で、高感度の放射線感応性レジスト組成物を提供する。【構成】 レジスト材料と溶剤を含有する放射線感応性レジスト組成物中に、(a)キシリレン化合物、(b)サリチル酸、及び(c)9,9’-ビス-(ヒドロキシフェニル)-フルオレン類又は3,3,3’,3’-テトラメチル-2,3,2’,3’-テトラヒドロ-(1,1’)-スピロビインデンのジオール類を反応させることにより得られた、重量平均分子量が1000〜5000で、かつTgが100〜150°Cの重合体をレジスト材料とともに用いる。(c)の具体的化合物の例としては、9,9’-ビス-(4-ヒドロキシフェニル)-フルオレン、3,3,3’,3’-テトラメチル-2,3,2’,3’-テトラヒドロ-(1,1’)-スピロビインデン-6,6’-ジオールが挙げられる。レジスト材料としては、ポジ型、ネガ型レジストのいずれでもよいが、アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド感光剤とからなるものが好ましく用いられる。
Claim (excerpt)：
少なくともレジスト材料と有機溶剤を含有する放射線感応性レジスト組成物において、該組成物が、(a)一般式;【化1】(式中、R1 、R2 は、同一でも異なるものでもよく、ハロゲン原子、水酸基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表わす。)で表わされるキシリレン化合物、(b)サリチル酸、及び(c)一般式;【化2】及び/又は一般式;【化3】(式中、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 は、各々同一でも異なるものでもよく、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基又はハロゲン原子を表わし、p、qは、各々0又は1〜3の整数を、r、sは、各々0又は1〜4の整数を、t,uは、各々0、1又は2を表わす。)で表わされるジヒドロキシ化合物を反応させることにより得られた、重量平均分子量が1000〜5000で、かつガラス転移点(Tg)が100〜150°Cの重合体を含有することを特徴とする放射線感応性レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 501
, C08L 61/00
, C08L 65/00
, G03F 7/022
G03F 7/039 501
, C08L 61/00
, C08L 65/00
, G03F 7/022
