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J-GLOBAL ID：200903083546614229

高純度β型炭化ケイ素粉末の製造方法

Inventor： 宮崎 忠昭 ,  和田 宏明 ,  山田 知治 ,  遠藤 忍
Applicant, Patent owner： 株式会社ブリヂストン
Agent (1)： 中島 淳 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992332983
Publication number (International publication number)：1994183718
Application date： Dec. 14, 1992
Publication date： Jul. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 各不純物濃度を1ppm以下に抑えた超高純度β型炭化ケイ素粉末の工業的にも使用可能な製造方法を提供する。【構成】 液状のケイ素化合物と、フェノール樹脂のような加熱により炭素を生成する液状の有機化合物を原料とし、これらに重合又は架橋触媒を加えて重合又は架橋反応させ、得られた前駆体物質を非酸化性雰囲気中で、加熱炭化し、さらに、非酸化性雰囲気中で高温で焼成することからなるβ型炭化ケイ素粉末の製造方法において、該原料及び/又は触媒に、金属成分を実質的に含有しない塩化水素の如きハロゲン化合物を添加する。さらに、原料に高純度炭素質固体及びケイ素質固体を添加する。

Claim (excerpt)：

液状のケイ素化合物と、官能基を有し加熱により炭素を生成する液状の有機化合物を原料とし、これらに均一に溶化する高純度の重合又は架橋触媒を加え、重合又は架橋反応させ、得られた均一な前駆体物質を非酸化性雰囲気中で、加熱炭化して得た中間体生成物を、非酸化性雰囲気中でさらに高温で焼成することからなるβ型炭化ケイ素粉末の製造方法において、該原料及び/又は触媒に、金属成分を実質的に含有しないハロゲン化合物を添加することを特徴とする高純度β型炭化ケイ素粉末の製造方法。

IPC (3)：

C01B 31/36 ,  C04B 35/58 101 ,  C08F 30/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-149017
  
• 特開昭62-212213
  
• 特開昭63-170207
  
• 特開昭60-226406