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J-GLOBAL ID：200903083552771484

洗浄装置

Inventor： 足立 大介
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994020440
Publication number (International publication number)：1995230978
Application date： Feb. 17, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、半導体デバイスの製造工程において洗浄に用いられた洗浄液の再生に関して、安全性の向上とエネルギコストの削減と洗浄液の品質向上を目的とする。【構成】 少なくとも、洗浄液1を槽内に貯留する洗浄槽2と、洗浄液1を再生する再生機構3と、洗浄槽2から排出した洗浄液1を再生機構3に送る再生配管4と、再生機構3から洗浄槽2に再生された洗浄液1を還流する還流配管5とを同一の洗浄装置9内に備え、また、再生機構3は洗浄液1を少なくとも蒸留生成する機構7を備えてなること、更に、再生機構3は洗浄液1を少なくとも濾過するフィルタ8を備えてなる。

Claim (excerpt)：

少なくとも、洗浄液(1) を槽内に貯留する洗浄槽(2) と、該洗浄液(1) を再生する再生機構(3) と、該洗浄槽(2) から排出した該洗浄液(1)を該再生機構(3) に送る再生配管(4) と、該再生機構(3) から該洗浄槽(2) に再生された該洗浄液(1) を還流する還流配管(5) とを同一の洗浄装置(9) 内に備えてなることを特徴とする洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B01D 35/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-147323
  
• 特開平4-107923
  
• 特開昭60-137095