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J-GLOBAL ID：200903083589831789

レーザ顕微鏡およびパターン形状測定方法

Inventor： 森 忠儀
Applicant, Patent owner： 石川島播磨重工業株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993080977
Publication number (International publication number)：1994294625
Application date： Apr. 07, 1993
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ウェハーの表面に凸部として形成されているレジスト等のパターンの特に壁面の形状を測定し得る手段を提供する。【構成】 レーザ光2を光学系20を介して試料4表面に照射してその反射光を受光することにより、試料表面に形成されているパターン13の寸法や形状を測定し検査するためのレーザ顕微鏡において、光学系に絞り機構21を組み込む。パターンの壁面13aの形状を測定するに際しては、光学系の焦点を固定した状態で絞り機構を調節することにより、光学系の焦点深度を変化させ、それに伴うデータの変化の状況に基づいて壁面の形状を測定する。

Claim (excerpt)：

レーザ光を光学系を介して試料表面に照射してその反射光を受光することにより、試料表面に形成されているパターンの寸法や形状を測定し検査するために用いられるレーザ顕微鏡であって、前記光学系には試料に照射するレーザ光の光量を調節するための絞り機構が組み込まれてなることを特徴とするレーザ顕微鏡。

IPC (2)：

G01B 11/24 ,  G02B 21/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光学検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-210666   Applicant：キヤノン株式会社