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J-GLOBAL ID：200903083600473725

X線露光用マスク及びその製造方法

Inventor： 伊藤 正光 ,  杉原 真児
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992065870
Publication number (International publication number)：1993267129
Application date： Mar. 24, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 X線透過膜を有するX線マスク支持体に補強枠を接着する工程を含むX線マスクの製造方法において、接着剤の体積変化や変形に起因するマスクの歪みを一切伴わず、工程の簡単となるX線マスク製造方法を提供することにある。【構成】 X線マスク支持体に、膜厚が数nm〜数十nmのCr膜を形成し、このCr膜を介して、X線マスク支持体と補強枠を固相接合する。【効果】 接着剤の体積変化や変形に起因するX線マスクの歪み、X線吸収体パターンの位置ずれが解消される。また、このCr膜は、シリコン基板のエッチングの際のマスクとしても用いるため、従来行なってきたように、シリコン基板のエッチング用のマスク層としての、SiC層などの形成工程が省かれ、プロセスが簡単となる。

Claim (excerpt)：

X線吸収体パターンと、これを支持するX線透過膜と、この膜の外周を固定するX線マスク支持体と、この支持体を補強する補強枠と、この補強枠と前記支持体との間に設けられたCrを含む固相接合層とを備えたことを特徴とするX線露光用マスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16