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J-GLOBAL ID：200903083606982605
露光制御方法及び装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993053449
Publication number (International publication number)：1994267826
Application date： Mar. 15, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】 パルス光源を用いてスリットスキャン露光方式でレチクルのパターンを感光基板上に露光する場合に、感光基板への露光量及び照度均一性の制御精度を向上する。【構成】 パルス光源1からのパルス光で照明光学系(2〜10)を介してスリット状の照明領域24を照明し、照明領域24内の像を投影光学系15を介して露光領域24W上に露光する。レチクルR及びウエハWを同期して逆方向に走査することにより、レチクルRのパターンをウエハW上に露光する。パルス光源1に対して一定周波数の発光トリガー信号TPを供給し、パルス光のパルス光量のばらつき及びパルス光源1の発光タイミングのばらつきを考慮して、露光パルス数等を定める。
Claim (excerpt)：
発光の度に所定の範囲内での光量変動及び発光タイミング変動を伴うパルス光を発生するパルス光源からの前記パルス光を所定の照明領域に照射し、前記所定の照明領域に対してマスク及び基板を同期して相対的に走査しつつ前記マスク上のパターンを前記基板上へ露光する際に、前記基板への前記パルス光の積算露光量及び前記基板上での照度均一性を所定の精度内に制御するための露光量制御方法において、前記基板に対する露光の前に予め、前記パルス光源に前記パルス光を複数パルス発光させることにより、前記パルス光のパルスエネルギーの平均値、パルスエネルギーのばらつき及び発光タイミングのばらつきを求める第1工程と、該第1工程で求められた前記パルスエネルギーのばらつき及び前記発光タイミングのばらつきに基づいて、前記基板への積算露光量及び前記基板上での照度均一性を所定の精度内に制御するために必要な、前記基板上の1点に照射されるべき前記パルス光の最小パルス数を求める第2工程と、前記パルス光の最小パルス数、前記基板に対する適正な積算露光量及び前記第1工程で求められた前記パルスエネルギーの平均値に基づいて、前記基板上に照射される前記パルス光のパルスエネルギーを一律に調整するための調整度を設定する第3工程と、前記パルス光源に前記パルス光を発光させるための発光トリガー信号を等時間間隔で送出させて、前記所定の照明領域に対して相対的に前記マスク及び前記基板を走査することにより、前記マスクのパターンを前記基板上に露光する第4工程とを有することを特徴とする露光制御方法。
IPC (4)：
H01L 21/027
, G03B 27/72
, G03F 7/20 521
, G11B 5/31
