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J-GLOBAL ID：200903083618349444

旋回式微細気泡発生装置

Inventor： 大成 博文
Applicant, Patent owner： 大成 博文
Agent (1)： 村田 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998378496
Publication number (International publication number)：2000000447
Application date： Dec. 30, 1998
Publication date： Jan. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 微細気泡を簡潔な構造で効率よく生成することができる微細気泡発生装置の提供。【解決手段】円錐形又は徳利形のスペースを有する容器本体と、同スペースの内壁円周面の一部にその接線方向に開設された液体導入口と、前記スペース底部に開設された気体導入孔と、前記スペースの頂部に開設された旋回気液導出口とから構成する。また、円形収容室3へ水液流を付勢旋回導入する構造と、その上部の漸拡形状の有蓋円筒体4内の周辺部分4aに旋回上昇流を形成する構造と、該周辺部分4aの内側の部分4bに形成される旋回下降流形成構造と、遠向心分離作用により、その中心部分4cに形成される負圧の旋回空洞部23と、該負圧の旋回空洞部23に形成され、伸長、先細りさせながら旋回下降する気体渦管24の形成構造と、その気体渦管24が中央還流口6に突入及び流出するとき渦管24が強制的に切断され、微細気泡を発生するごとくなる微細気泡発生構造とする。

Claim (excerpt)：

円錐形のスペースを有する容器本体と、同スペースの内壁円周面の一部にその接線方向に開設された加圧液体導入口と、前記円錐形のスペース底部に開設された気体導入孔と、前記円錐形スペースの頂部に開設された旋回気液導出口とから構成されてなることを特徴とする旋回式微細気泡発生装置。

IPC (3)：

B01F 3/04 ,  B01F 5/04 ,  C02F 3/20

FI (3)：

B01F 3/04 C ,  B01F 5/04 ,  C02F 3/20 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-126542
  
• 特公昭48-006211
  
• 特公昭54-041247