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J-GLOBAL ID：200903083630939290

フォトレジスト用組成物

Inventor： 丸尾 正剛 ,  匠 伸祐 ,  鷹取 滋
Applicant, Patent owner： 石原産業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991360935
Publication number (International publication number)：1993173319
Application date： Dec. 13, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】半導体素子や集積回路構成、さらにはオフセット印刷製版等の作製におけるフォトレジストパターン加工に有用なフォトレジスト用組成物を提供する。【構成】平均粒子径が0.002〜0.2μmである金属酸化物もしくはオキシ金属水酸化物の微粉末を、ノボラック樹脂等の感光性樹脂に対して0.05〜20重量%含有させることからなるフォトレジスト用組成物。

Claim (excerpt)：

平均粒子径が0.002〜0.2μmの金属酸化物もしくはオキシ金属水酸化物の微粉末を、感光性樹脂に対して0.05〜20重量%含有してなるフォトレジスト用組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027