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J-GLOBAL ID：200903083659050526

ステンレス鋼の不動態膜形成方法及びステンレス鋼

Inventor： 大見 忠弘 ,  中村 雅一
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991212592
Publication number (International publication number)：1998204526
Application date： Jul. 30, 1991
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：

【要約】【目的】 不動態膜の超平坦化並びに緻密化を達成し、脱ガス特性や耐食性に優れた不動態膜の形成方法を提供することを目的とする。【構成】 ステンレス鋼の表面を電解研磨処理した後、酸化性雰囲気ガス中で酸化処理し、続いて水素ガスにより表面の鉄酸化物を還元除去することを特徴とするステンレス鋼不動態膜形成方法。

Claim (excerpt)：

ステンレス鋼の表面を電解研磨処理した後、酸化性雰囲気ガス中で酸化処理し、続いて水素ガスにより表面の鉄酸化物を還元除去することを特徴とするステンレス鋼不動態膜形成方法。

IPC (4)：

C21D 1/76 ,  C23C 8/02 ,  C23C 8/14 ,  C23C 8/80

FI (5)：

C21D 1/76 F ,  C21D 1/76 G ,  C23C 8/02 ,  C23C 8/14 ,  C23C 8/80