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J-GLOBAL ID：200903083661631544

自己難燃性レジスト材料及び絶縁材料

Inventor： 津島 宏 ,  岡 毅
Applicant, Patent owner： 日本ペイント株式会社
Agent (1)： 目次 誠 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002083837
Publication number (International publication number)：2002372786
Application date： Mar. 25, 2002
Publication date： Dec. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 低誘電率でかつ自己難燃性を有するレジスト材料及び絶縁材料を得る。【解決手段】 (A)有機溶剤に可溶な重量平均分子量10000以上のポリシランと、(B)光ラジカル発生剤及び酸化剤と、(C)以下の一般式(1)等で示される構造のシリコーン化合物と、【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、炭素数1〜10のハロゲンまたはグリシジル基で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12のハロゲンで置換されていてもよい芳香族炭化水素基、炭素数1〜8のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、互いに同一でも異なっていてもよいが、一分子中には少なくとも2つの上記アルコキシ基が含まれている。m及びnは整数であり、m+n≧1を満たすものである。)(D)有機溶剤とを含む感光性樹脂組成物からなることを特徴としている。

Claim (excerpt)：

(A)有機溶剤に可溶な重量平均分子量10000以上のポリシランと、(B)光ラジカル発生剤及び酸化剤と、(C)以下の一般式(1)または(2)で示される構造のシリコーン化合物と、【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、炭素数1〜10のハロゲンまたはグリシジル基で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12のハロゲンで置換されていてもよい芳香族炭化水素基、炭素数1〜8のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、互いに同一でも異なっていてもよいが、一分子中には少なくとも2つの上記アルコキシ基が含まれている。m及びnは整数であり、m+n≧1を満たすものである。)【化2】(式中、R1〜R12は、炭素数1〜10のハロゲンまたはグリシジル基で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12のハロゲンで置換されていてもよい芳香族炭化水素基、炭素数1〜8のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、互いに同一でも異なっていてもよいが、一分子中には少なくとも2つの上記アルコキシ基が含まれている。a、b、c及びdは0を含む整数であり、a+b+c+d≧1を満たすものである。)(D)有機溶剤とを含む感光性樹脂組成物からなることを特徴とする自己難燃性レジスト材料。

IPC (7)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/075 521 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/40 501 ,  H01B 3/46 ,  H05K 3/28

FI (7)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/075 521 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/032 501 ,  G03F 7/40 501 ,  H01B 3/46 E ,  H05K 3/28 D

F-Term (30)：

2H025AA00 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE08 ,  2H025BF30 ,  2H025CB30 ,  2H025CB33 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA29 ,  2H025FA39 ,  2H025FA43 ,  2H096AA26 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096HA01 ,  2H096HA27 ,  5E314AA27 ,  5E314AA40 ,  5E314FF01 ,  5E314GG08 ,  5G305AA11 ,  5G305AB10 ,  5G305AB25 ,  5G305BA09 ,  5G305CA26 ,  5G305CB26 ,  5G305CD12 ,  5G305CD20