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J-GLOBAL ID：200903083662277469

リング状の真空ケーシングを有するX線管及びコンピュータトモグラフ

Inventor： エーリッヒ ヘル
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995251325
Publication number (International publication number)：1996115695
Application date： Sep. 28, 1995
Publication date： May. 07, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 リング状のケーシングを有するX線管に関する。このX線管は電子ビームを円形の経路に沿って走行させる。さらにリング状のターゲット12を有し、電子ビームが照射個所においてターゲットへ照射すると、該ターゲットからX線管の作動中にX線ビームが放出する。さらに偏向き手段13を有し、この偏向手段は、真空ケーシング1の周縁に沿って変位可能であり、電子ビームを、この電子ビームが真空ケーシングの周縁に沿う偏向手段の位置に依存する照射個所においてターゲットへ照射するように偏向する。

Claim (excerpt)：

X線管にであって、該X線管はリング状の真空ケーシング(1)を有し、電子ビーム源(3)を有し、該電子ビーム源は、電子ビーム(E)を加速する手段(6,7)を用いて、真空ケーシング(1)の中へ進入する電子ビーム(E)を形成し、第1の偏向手段(10)を有し、該偏向手段は電子ビームを、電子ビームがリング状の経路に沿って真空ケーシング(1)を走行するように、偏向し、リング状のターゲット(12)を有し、電子ビーム(E)が照射個所(A)において該ターゲットへ照射されると、該ターゲットからX線管の作動中にX線ビームが放出され、第2の偏向手段を有し、該偏向手段はX線管の作動中に電子ビーム(E)を、この電子ビームが照射個所(A)においてターゲット(12)の照射するように偏向し、真空ケーシング(1)と第2の偏向手段が真空ケーシング(1)の周縁方向(α)において互いに相対的に変位可能であり、さらに照射個所(A)の位置は、真空ケーシング(1)の周縁(経路)に沿っての第2の偏向手段の位置に依存することを特徴とする、X線管。

IPC (4)：

H01J 35/30 ,  A61B 6/03 320 ,  H01J 35/16 ,  H05G 1/00