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J-GLOBAL ID：200903083682226240

界面活性剤を含む放射性廃液の処理方法及びその処理装置

Inventor： 松尾 俊明 ,  西 高志 ,  松本 隆行 ,  松田 将省 ,  雪田 篤
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998372807
Publication number (International publication number)：2000193789
Application date： Dec. 28, 1998
Publication date： Jul. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】二次廃棄物発生量を大幅に抑制でき、オゾンを用いた場合の有機物分解処理速度を増加させる。【解決手段】放射性洗濯廃液が廃液加熱槽16内に供給される。過酸化水素が過酸化水素タンク22から、アルカリ溶液がアルカリ溶液タンク25から廃液加熱槽16に供給される。アルカリ溶液によって、放射性洗濯廃液のpHが7以上に調整される。放射性洗濯廃液は加熱装置4で50°C以上に加熱される。加熱された放射性洗濯廃液は曝気槽2A,2Bに導かれる。オゾンがオゾン発生器1,オゾンガス吐出口3Aより曝気槽2Aに供給される。曝気槽2Aから排出されたオゾンがオゾンガス吐出口3Bより曝気槽2Bに導かれる。過酸化水素の存在下で50°C以上に加熱されるので、オゾンの放射性洗濯廃液内への溶解量が増加し、有機物を分解するヒドロキシラジカルの生成量が増加する。

Claim (excerpt)：

界面活性剤を始めとする有機物を含む放射性廃液に、過酸化水素を添加すると共に、オゾンを注入し、このオゾンの注入は、前記放射性廃液を50°C以上に加熱して行うことを特徴とする界面活性剤を含む放射性廃液の処理方法。

IPC (7)：

G21F 9/06 551 ,  G21F 9/06 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/78 ,  G21F 9/08 511 ,  G21F 9/28 525

FI (8)：

G21F 9/06 551 A ,  G21F 9/06 G ,  C02F 1/58 C ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/78 ,  G21F 9/08 511 B ,  G21F 9/28 525 G

F-Term (29)：

4D038AA08 ,  4D038AB01 ,  4D038AB02 ,  4D038AB07 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB01 ,  4D038BB06 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D038BB17 ,  4D038BB20 ,  4D050AA13 ,  4D050AB01 ,  4D050AB02 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC01 ,  4D050BC10 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA13 ,  4D050CA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 界面活性剤及び放射性物質を含む廃液の処理方法及びその処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-121325   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭58-034080
  
• オゾン接触装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-004399   Applicant：株式会社明電舎