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J-GLOBAL ID：200903083717094261

水処理装置

Inventor： 本間 汎
Applicant, Patent owner： 本間 汎
Agent (1)： 岩木 謙二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995245231
Publication number (International publication number)：1997066285
Application date： Aug. 31, 1995
Publication date： Mar. 11, 1997
Summary：

【要約】【目的】 高周波処理、磁気処理あるいは超音波処理との組み合わせにより、配管中に発生している赤錆、スケール等の除去効率が高く、また、赤錆、スケール等が発生するのを防止することができる水処理装置を提供することである。【構成】 流入口3の近傍に高周波発振子4...を設けた高周波照射装置1の流出口5に、内部に磁石を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置7の流入口9を接続する。

Claim (excerpt)：

流入口の近傍に高周波発振子を設けた高周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続してなることを特徴とする水処理装置。

IPC (4)：

C02F 1/48 ,  C02F 1/36 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00

FI (4)：

C02F 1/48 A ,  C02F 1/36 ,  C02F 5/00 610 B ,  C02F 5/00 610 A