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J-GLOBAL ID：200903083717208402

加熱装置

Inventor： 古川 貴康 ,  片田 光男 ,  鵜沢 明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995010348
Publication number (International publication number)：1996203659
Application date： Jan. 26, 1995
Publication date： Aug. 09, 1996
Summary：

【要約】【構成】チャンバ1と真空排気系2とプレートヒータ5を備え、チャンバ1内に設置されたプレートヒータ5上の被処理物を、輻射伝導加熱,伝達加熱、及び伝導加熱を可能とする加熱装置。【効果】過熱源が一つである一台の加熱装置で、三通りの加熱方式が選択可能であり、又、複合的な加熱も出来るため被処理物の特性に合った加熱処理が可能である。

Claim (excerpt)：

チャンバと真空排気系とガス導入系とプレートヒータとを含み、上記チャンバ内に配置された上記プレートヒータ上の被処理物を、輻射加熱,伝達加熱、及び伝導加熱を可能とすることを特徴とする加熱装置。

IPC (3)：

H05B 3/00 330 ,  B23K 20/00 340 ,  H01L 27/12