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J-GLOBAL ID：200903083745777978

ジオルガノポリシロキサンの製造方法

Inventor： 大川 直
Applicant, Patent owner： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993151052
Publication number (International publication number)：1994340743
Application date： May. 28, 1993
Publication date： Dec. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 分子鎖片末端にのみ官能性基を有するジオルガノポリシロキサンを高純度に製造する方法を提供する。【構成】 環状トリシロキサンをリチウム系重合触媒により非平衡重合反応して分子鎖片末端にのみ官能性基を有するジオルガノポリシロキサンを製造する方法において、環状トリシロキサン中に含まれるシラノール基含有不純物を予め、シリル化剤によりシリル化することを特徴とする、オルガノポリシロキサンの製造方法、および環状トリシロキサン中に含まれるシラノール基含有不純物を予め有機リチウム化合物によりリチオ化してリチオ化物を形成し、次いで、このリチオ化物をケイ素原子結合ハロゲン原子を有するシリル化剤によりシリル化することを特徴とする、分子鎖片末端にのみ官能性基を有するジオルガノポリシロキサンの製造方法。

Claim (excerpt)：

(A)一般式:(R2SiO)3(式中、Rは一価炭化水素基である。)で示される環状トリシロキサンを、(B)一般式:R(R2SiO)mH(式中、Rは一価炭化水素基であり、mは1以上の整数である。)で示されるシランもしくはシロキサンの存在下または不存在下、(C)一般式:R(R2SiO)nLi(式中、Rは一価炭化水素基であり、nは0以上の整数である。)で示されるリチウム系重合触媒により非平衡重合反応し、次いで、この非平衡重合反応を、(D)酸または一般式:R1R2SiX(式中、Rは一価炭化水素基であり、R1は水素原子または有機官能性基であり、Xはハロゲン原子である。)で示されるハロシランにより停止することにより、一般式:R(R2SiO)pB{式中、Rは一価炭化水素基であり、Bは水素原子または一般式:-SiR2R1(式中、Rは一価炭化水素基であり、R1は水素原子または有機官能性基である。)で示される基であり、pは1以上の整数である。}で示されるジオルガノポリシロキサンを製造する方法において、上記(A)環状トリシロキサン中に含まれるシラノール基含有不純物を予め、(E)シリル化剤によりシリル化することを特徴とする、ジオルガノポリシロキサンの製造方法。

IPC (2)：

C08G 77/06 NUB ,  C08G 77/08 NUD