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J-GLOBAL ID：200903083755855721

レーザ描画装置

Inventor： 吉岡 正喜 ,  桑原 章
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000148195
Publication number (International publication number)：2001330966
Application date： May. 19, 2000
Publication date： Nov. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 描画パターンの濃度むらの補正処理を高精度に行うレーザ描画装置を提供することを目的とする。【解決手段】 レーザビームをラスターデータに基づいて生成される描画信号によって変調し、この変調されたレーザビームをポリゴンミラー67で主走査方向に偏向させて描画ステージ5上の基板に照射させるとともに、描画ステージ5を副走査方向に移動させてパターンを描画するレーザ描画装置において、レーザビームの一走査ラインのうちで補正箇所の光量を光量補正データcに応じて調整する光量補正回路123を備える。

Claim (excerpt)：

レーザビームをラスターデータに基づいて生成される描画信号によって変調し、この変調されたレーザビームを偏向手段で主走査方向に偏向させて載置台上の処理対象物に照射させるとともに、副走査方向にレーザビームと載置台とを移動手段で相対的に移動させることにより所望のパターンを前記処理対象物に描画するレーザ描画装置において、レーザビームの一走査ラインのうちで補正箇所の光量を光量補正データに応じて調整する光量調整手段を備えていることを特徴とするレーザ描画装置。

IPC (3)：

G03F 7/20 505 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113

FI (3)：

G03F 7/20 505 ,  B41J 3/00 M ,  H04N 1/04 104 A

F-Term (27)：

2C362AA53 ,  2C362AA55 ,  2C362AA56 ,  2C362AA61 ,  2C362AA63 ,  2C362AA69 ,  2C362BA56 ,  2C362BA67 ,  2C362BB33 ,  2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097BA10 ,  2H097BB01 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097LA09 ,  5C072AA03 ,  5C072BA08 ,  5C072DA04 ,  5C072FB12 ,  5C072FB15 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA12 ,  5C072HB04 ,  5C072XA01 ,  5C072XA04