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J-GLOBAL ID：200903083758956510

ポリ(m-ヒドロキシスチレン)及びその製造方法

Inventor： 渡辺 修 ,  山田 素行
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 滝田 清暉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992216359
Publication number (International publication number)：1994041222
Application date： Jul. 22, 1992
Publication date： Feb. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】高解像度及び高現像度のレジスト材料用ポリマーとして優れると共に、ポリマーブレンド剤等にも好適な、単分散性ポリ(m-ヒドロキシスチレン)、及びその製造方法を提供すること。【構成】下記化1で表される繰り返し単位を有する単分散性ポリ(m-ヒドロキシスチレン)及びその製造方法。【化1】

Claim (excerpt)：

下記化1で表される繰り返し単位を有する単分散性ポリ(m-ヒドロキシスチレン)。【化1】

IPC (5)：

C08F 8/12 MGF ,  C08F 12/24 MJY ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭49-130992
  
• 特開昭59-199705
  
• 特開平4-053807
  
• 特開昭62-115440