Pat

J-GLOBAL ID：200903083775948823

光触媒式有害ガス除去装置

Inventor： 西村 智明 ,  新貝 和照 ,  宮本 昌広 ,  西方 聡 ,  高橋 武男
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 山口 巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995168533
Publication number (International publication number)：1997019624
Application date： Jul. 04, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【目的】触媒機能の劣化した光触媒層について、その触媒活性を初期と同等な状態まで回復させ、長期間継続して稼働できるようにした光触媒式有害ガス除去装置を提供する。【構成】被処理空気を流す風胴1内に布設した二酸化チタンを主成分とする光触媒層2に光源ランプ3より紫外線を照射して光触媒を活性化させ、光触媒との接触反応によりNOX ,SOX などの有害ガス成分を酸化して光触媒層に吸着させるものにおいて、通常は除染運転とスプレー式水洗浄装置4による光触媒層の水洗浄とを周期的に繰り返し行って触媒活性を再生させ、光触媒が劣化して除染能力が規定以下に低下した場合には、洗浄水の吐出圧力を高めて光触媒層に向け噴射し、その噴流水圧で光触媒層の表面を薄く削り取って表面を未使用の新しい触媒面に更新して触媒活性を初期と同等にまで回復させる。

Claim (excerpt)：

環境大気中からNOX ,SOX などの大気汚染物質を除去するための光触媒式有害ガス除去装置であり、被処理空気中に表面を曝して布設した二酸化チタンを主成分とする光触媒層に近紫外線を照射して光触媒を活性化させ、光触媒との接触反応により有害ガス成分を酸化して光触媒層に吸着させるものにおいて、触媒活性が低下した際に光触媒層の劣化した表面を薄く削り取って未使用の触媒面に更新させる表面研削手段を備えたことを特徴とする光触媒式有害ガス除去装置。

IPC (2)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86

FI (2)：

B01D 53/36 ZAB J ,  B01D 53/36 K

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-233100
  
• 特開平1-218622
  
• 特開昭58-180237