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J-GLOBAL ID:200903083777101526
光学用積層シートの製造法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大石 征郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991244764
Publication number (International publication number):1993057857
Application date: Aug. 29, 1991
Publication date: Mar. 09, 1993
Summary:
【要約】【目的】 表面平滑性の極めてすぐれた光学用積層シート、殊に液晶表示パネル製造用の電極基板に適した光学用積層シートを工業上有利に製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 表面粗度 0.004μm の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(3) 上に架橋性樹脂硬化物層(2) 形成用の樹脂溶液を流延した後、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が絶乾被膜重量の5〜100重量%となるまで乾燥を行う。ついでこの積層体の半乾燥被膜(2a)側を下層用樹脂層(1) に重ね合わせて圧着することにより半乾燥被膜(2a)を下層用樹脂層(1) に転写した後、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(3) を剥離除去し、さらに乾燥硬化を行って樹脂層(2) となす。この樹脂層(2) の自由面の表面平滑度は、光の干渉を利用した表面粗さ計による測定で 0.1μm 以下となる。
Claim (excerpt):
表面粗度0.15μm 以下の二軸延伸プラスチックスシート(3) 上に樹脂層(2) 形成用の樹脂溶液を流延した後、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が絶乾被膜重量の5〜100重量%となるまで乾燥を行い、ついでこの積層体の半乾燥被膜(2a)側を下層用樹脂層(1) に重ね合わせて圧着することにより半乾燥被膜(2a)を下層用樹脂層(1) に転写した後、二軸延伸プラスチックスシート(3) を剥離除去し、さらにその剥離の前または後に加熱を行い、転写した半乾燥被膜(2a)を乾燥硬化して樹脂層(2) となすことを特徴とする光学用積層シートの製造法。
IPC (8):
B32B 31/00
, B32B 7/02 103
, B32B 7/06
, B32B 27/00
, B44C 1/165
, C08L 73/00 LQQ
, B44C 1/175
, G02F 1/1335 510
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