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J-GLOBAL ID:200903083783628048

半導体装置,及び半導体レーザ,並びに高電子移動度トランジスタ装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 早瀬 憲一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995263306
Publication number (International publication number):1997106946
Application date: Oct. 11, 1995
Publication date: Apr. 22, 1997
Summary:
【要約】【課題】 結晶品質に優れた歪超格子構造を備えた半導体装置,及び結晶品質に優れた歪を有するMQW構造を活性層に備えた半導体レーザ,並びに結晶品質に優れた疑似電子走行層を備えた高電子移動度トランジスタ装置を提供することを課題とする。【解決手段】 MQW構造4を、基板1に対して引張り方向の歪を有する(Alx3Ga1-x3)y3In1-y3P(0≦x3≦0.2,y3=0.6) 井戸層4aと、基板1に対して引張り方向の歪を有するとともにその歪量が井戸層4aよりも小さい(Alx4Ga1-x4)y4In1-y4P(x4=0.5,y4=0.55)障壁層4bとを交互に積層してなる構造とした。
Claim (excerpt):
半導体基板と、該半導体基板の一主面上に形成された、上記基板に対して圧縮方向,又は引張り方向の歪を有する第1の半導体層と、該第1の半導体層と上記基板に対して同一方向の異なる歪量の歪を有する第2の半導体層とを、交互に2層以上積層してなる歪超格子構造とを備えたことを特徴とする半導体装置。
IPC (5):
H01L 21/20 ,  H01L 29/778 ,  H01L 21/338 ,  H01L 29/812 ,  H01S 3/18
FI (3):
H01L 21/20 ,  H01S 3/18 ,  H01L 29/80 H

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