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J-GLOBAL ID：200903083819464780
ウェーハの湿式自動洗浄システム
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山口 巖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992313823
Publication number (International publication number)：1994163492
Application date： Nov. 25, 1992
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：
【要約】【目的】適正な搬送パターンでウェーハ槽間搬送を行い、エッチング洗浄処理後の槽間搬送に伴う自然酸化膜の発生,並びに特定薬液とウェーハの付着水との反応による突沸現象が良好に防止できる湿式自動洗浄システムを提供する。【構成】ウェーハ洗浄処理工程に対応して並ぶ薬液槽3,5,7, 純水槽4,6,8と、これら洗浄槽の配列に沿ってウェーハ11を槽間搬送する搬送ロボット10と、搬送ロボットの制御部12を備え、前段の処理工程から搬入されたウェーハを指定の洗浄プロセスフローにしたがって洗浄処理する多槽浸漬式によるウェーハの湿式自動洗浄システムにおいて、エッチング処理を行うフッ酸薬液槽5から純水槽6への搬送ポジションではウェーハの槽間搬送速度を高速VH に、純水槽4,6から水と反応する硫酸薬液槽7への搬送ポジションでは純水槽からのウェーハ引上げ速度を低速VL に設定して搬送ロボットを運転制御する。
Claim (excerpt)：
ウェーハ洗浄処理工程に対応して並ぶ薬液槽, 純水槽と、これら洗浄槽の配列に沿ってウェーハを槽間搬送する搬送ロボットと、搬送ロボットの制御部を備え、前段の処理工程から搬入されたウェーハを指定の洗浄プロセスフローにしたがって洗浄処理する多槽浸漬式によるウェーハの湿式自動洗浄システムにおいて、エッチング薬液槽から純水槽への搬送ポジションではウェーハの槽間搬送速度を高速に、純水槽から水と反応する薬液槽への搬送ポジションでは純水槽からのウェーハ引上げ速度を低速に設定して搬送ロボットを運転制御することを特徴とするウェーハの湿式自動洗浄システム。
IPC (3)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/68
